——物理气相沉积（PVD）低温合成  

物理气相沉积(PVD)技术成果，解决了塑料制品件（特别是尺寸小而薄的工件）真空镀容易变形的技术难题。利用产业化规模的PVD系统，通过计算机自动控制来提高工艺稳定性，沉积出高硬度、少液滴、结合强度高、耐磨性好的TiN膜层。特别是在塑料制品上低温（≤80℃）沉积出质量优良的陶瓷硬质TiN、TiCN薄膜。  

技术特色  

▼沉积温度低（≤80℃），工件不变形；  

▼计算机自动控制，工艺重复性好；  

▼镀层品种丰富：Ag,Ti,Al等金属，TiN,TiCN,ZrN等陶瓷和类金刚石DLC薄膜；  

▼基材限制少：塑料、橡胶、各种金属如锌、铝合金、钢、钛）均可镀膜等。  

镀层性能指标Propertiesoffilms  

▼膜层硬度高，大于Hv1300;highhardness,>Hv1300;  

▼膜层厚度：0.1-1.0μm；Thicknessoffilmsabout0.1-1.0μm;  

▼膜层颜色：以色板为准。Colorsoffilms:uptocolorsample.